刚宣布断供就被打脸，国产企业突破关键材料，日本没想到会这么快

　　近几年，国内半导体市场在老美的“封锁下”，非但没有萎靡不振，反而在经过短暂的调整之后，表现出了前所未有的活力。芯片产业的细分领域，比如基础EDA软件、架构、光刻机等半导体硬件设备等等，都实现了破冰。

　　正如比尔盖茨所说：不卖给中国芯片，只会加速他们自研的决心与脚步。

　　然而，明枪易躲暗箭难防，就在我们集中注意力实现“去美化”替代之时，旁边的“邻居”突然落井下石，也要来干预我国半导体产业的发展。

　　据外媒报道称，日本方面在考虑断供我国市场高端光刻胶的计划，而随着信越化学公司公开宣布不再计划向中企出口Krf光刻胶的消息，断供的消息被彻底坐实。

　　光刻胶被称为是光刻机运作的“燃料”，是芯片制造产线上必不可少的材料，其重要性不言而喻。没有高端光刻胶的供应意味着，即便我们实现了EUV的国产化，也无法制造出高端芯片。

　　很显然，日本断供光刻胶的举动，是想遏制我国高科技的发展，这与老美的技术封锁形成了合围之势，不得不说，正在国产芯片产业的崛起突围之路，难度又增加了。

　　令人振奋的是，在这关键时刻，国产材料企业南大光电挺身而出，不仅完成了对高端光刻胶的研发，还成功收获了来自海外的订单。

　　对于刚宣布断供我们光刻胶没多久的日本而言，或许怎么也不会想到，打脸竟然来得这么快。

　　相比光刻机，或许很多人会认为光刻胶的研发只是小儿科，实则不然，日本信越化学在光刻胶领域的地位就相当于光刻机领域的ASML，占据了全球约90%以上的份额，从市场和客户的角度来看，它们是压在同行身上的一座“大山”。

　　值得强调的是，光刻胶在芯片产线上所占的份额比例其实只有1%，其市场规模可想而知，有信越化学的存在，其他后起之秀根本没有多少生存空间。

　　但是，对意在搭建完善半导体产业链的我国来说，这小小的1%市场，是我们的必争之地。

　　事实上，南大光电对于Arf光刻胶的研发在去年就已经完成了，只不过，在没有正式步入商用之前，就不能证明该产品的可用性，更不能算是真正意义上的突破垄断。

　　令人振奋的是，南大光电做到了。近日，南大光电在互动平台上，证实了获取海外订单的消息。虽然只是少量订单，却也代表着我国在光刻胶领域从零到一的重大意义。

　　值得强调的是，南大光电自主研发的Arf光刻胶可被应用于90nm至7nm技术节点的芯片制造工艺。

　　尽管不如日本信越化学可用于5nm制程的光刻胶产品，但是却足以满足目前国内的市场需求，同样，有国内巨大的消费市场做支撑，国产光刻胶技术的进一步强化只是时间问题而已。

　　目睹我国在光刻胶领域的崛起，妄图给我们使绊子的日本虽心有不甘，但也只能选择接受，因为南大光电的Arf光刻胶不含任何日、美技术，是100%纯国产！